Typische Substrate in der Photolithographie sind: 1. **Siliziumwafer**: Am häufigsten verwendet in der Halbleiterindustrie für die Herstellung von integrierten Schaltungen. 2. **Glas**: Oft genutzt in der Herstellung von Displays und optischen Komponenten. 3. **Silikonkarbid (SiC)**: Verwendet für Hochleistungs- und Hochtemperaturanwendungen. 4. **Galliumarsenid (GaAs)**: Häufig in der Optoelektronik und für Hochfrequenzanwendungen. 5. **Metallische Substrate**: Wie Kupfer oder Aluminium, die in bestimmten Anwendungen zur Wärmeableitung eingesetzt werden. Diese Substrate werden aufgrund ihrer spezifischen Eigenschaften und der Anforderungen der jeweiligen Anwendung ausgewählt.