Das Limit der Schichtdickenmessung mit dem Rasterelektronenmikroskop (REM) liegt typischerweise im Bereich von einigen Nanometern bis zu wenigen Mikrometern, abhängig von verschiedenen Faktoren wie der Art des Materials, der verwendeten Detektoren und der spezifischen Messmethode. Der Hauptgrund für dieses Limit ist die Auflösung des REM, die durch die Elektronenstrahlen und die Wechselwirkungen der Elektronen mit dem Material bestimmt wird. Bei sehr dünnen Schichten können Effekte wie Streuung, Absorption und die Bildung von Sekundärelektronen die Messgenauigkeit beeinträchtigen. Zudem können bei sehr dünnen Schichten die Eigenschaften des Materials selbst variieren, was die Interpretation der Messdaten erschwert. Zusammengefasst ist das Limit der Schichtdickenmessung im REM durch die physikalischen Eigenschaften der Elektroneninteraktion mit dem Material und die damit verbundenen Messunsicherheiten bedingt.